項次 |
技術名稱 |
專利證書號 |
摘要 |
專利期 |
1 |
具金屬氧化物陶瓷材料之半導體場效電晶體(MOSFET)及其製法 |
I474406 |
一種具金屬氧化物陶瓷材料之半導體場效電晶體(MOSFET)及其製法,其中該製法係包括:提供一基板;形成一具金屬氧化物陶瓷材料之第一半導體層於基板上;形成一絕緣層以突設於第一半導體層上,且將第一半導體層區隔成有至少兩間隔之區塊;形成一具離子植入之第二半導體層位於第一半導體層之兩區塊下;形成一第一導電層於第二半導體層上,以具有一源極電極及一汲極電極;以及形成一第二導電層於絕緣層上,以具有一閘極電極。由前述,此電晶體有別於與矽材電晶體不同的物理與化學特性,可擴展其應用範圍,及加工簡單,可降低製作成本。 |
2015/02/21-2029/09/17 |
讓受期限:2022/01/26-2022/04/25
連絡人:林彥芳小姐
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